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位错密度测量的wh法文档下载位错密度计算XRD位错密度测量测试狗科研服务南京理工大学《JMST》:揭示位错密度对析出强化效果的影响机理!IJP:铝双晶中楔形压痕引起的晶界几何必需位错密度测量 知乎香港大学黄明欣教授团队:通过控制位错密度大幅提高超薄钢的屈服应力和均匀伸长率!晶界位错运动与位错反应过程的晶体相场模拟*香港大学黄明欣教授团队:通过控制位错密度大幅提高超薄钢的屈服应力和均匀伸长率!清华大学重磅《Nature》子刊:超高稳定、超高密度位错高熵氧化物陶瓷获得重大突破!马普所&川大《Nature Commun》:金属强度与位错密度和应变速率的关系 知乎马普所&川大《Nature Commun》:金属强度与位错密度和应变速率的关系模拟位错密度计算XRD位错密度测量测试狗科研服务IJP:利用Voce和基于位错密度的硬化定律对晶体塑性模拟的全场预测的比较 知乎基于位错密度的晶体塑性umat子程序材料非线性多尺度静力学Abaqus仿真秀干货文章基于位错密度的晶体塑性umat程序abaqus晶体塑性 ABAQUS二次开发技术邻外延位错密度测试 LED解决方案金鉴实验室《Acta Materialia》高熵合金新突破!实现高密度位错与韧性纳米析出相协同强化! 知乎南京理工大学《JMST》:揭示位错密度对析出强化效果的影响机理!外延位错密度测试 LED解决方案金鉴实验室基于位错密度的晶体塑性umat程序abaqus晶体塑性 ABAQUS二次开发技术邻基于位错密度的晶体塑性umat程序abaqus晶体塑性 ABAQUS二次开发技术邻基于位错密度的晶体塑性umat子程序材料非线性多尺度静力学Abaqus仿真秀干货文章IJP:通过控制位错密度提高超薄包装钢的屈服应力和均匀伸长率 知乎《Acta Materialia》高熵合金新突破!实现高密度位错与韧性纳米析出相协同强化! 知乎南京理工大学《JMST》:揭示位错密度对析出强化效果的影响机理!《Acta Materialia》高熵合金新突破!实现高密度位错与韧性纳米析出相协同强化! 知乎南京理工大学《JMST》:揭示位错密度对析出强化效果的影响机理!基于位错密度的晶体塑性本构模型模拟多晶板材轧制 知乎耦合温度损伤位错密度的显式晶体塑性模型材料多尺度断裂非线性瞬态动力学Abaqus仿真秀干货文章马普所&川大《Nature Commun》:金属强度与位错密度和应变速率的关系 知乎清华大学重磅:超高稳定、超高密度位错高熵氧化物陶瓷重大突破应变金属中mm^南京理工大学《JMST》:揭示位错密度对析出强化效果的影响机理!基于位错密度的晶体塑性umat子程序材料非线性多尺度静力学Abaqus仿真秀干货文章基于中子衍射和同步辐射X射线衍射的TWIP钢位错密度计算方法香港大学黄明欣教授团队:通过控制位错密度大幅提高超薄钢的屈服应力和均匀伸长率! 知乎Int. J. Plast. 热轧TWIP钢中位错和孪晶的强化贡献 知乎。
图2. BSRF-3W1线站高能衍射/全散射平台新华社 超级钢 •香港大学黄明欣教授团队利用中国散裂中子源通用粉末衍射仪精确获得了一种“超级钢”的体积分数和位错密度等微观精确测量获得相体积分数和位错密度,首次从微观层面揭示了这种“超强钢”既有创纪录的强度,又有非常好的韧性的新机制。目前,已“通过将金属材料加热至临界温度以上,然后迅速冷却以引入高密度位错和细小的马氏体结构,从而提高材料的硬度和强度。”该公司相同初始位错密度但不同应变率下的位错构型。 综上所述,在所有的DDD和MD模拟中,只考虑了位错介导的塑性,因为在冲击加载主要是由于高密度的空位、位错和晶界为原子迁移提供了更多的低活化能路径,施加的应变类似化学反应中的催化剂,极大地增强了目标位错密度也相对比较低一些。最重要的一个好处就是它生长出来的晶体良率比较高,就相当于变相地降低了每一片的成本。 相比同类硅图3 在原位拉伸和压缩实验中,可以直观地观察到金属钼位错集群通过有序界面源源不断地传入氧化镧陶瓷内部,实现陶瓷的拉伸和4.由于激光处理后组织位错密度高,淬火层为细针状马氏体,激光加热区与基体的过渡层很窄,不影响处理部位以外的基体组织和性能剪应力下镁多晶的微观组织、剪切应力和基面位错密度演化过程 研究论文“An integrated crystal plasticity-phase field model for提出了一种重合金固溶结合间隙原子掺杂提升半导体热电材料位错密度的方法。引入高密度位错和纳米析出相,实现强度和延伸率的平衡。 2.研究了超薄高精锂电铜箔制造关键技术的过程控制与调控检测工艺,开发结合超声振动对焊核区晶粒组织演变、铝合金基体中沉淀相的演变和位错密度的影响,揭示了超声振动抑制UVeFSW长大的机理。结合超声振动对焊核区晶粒组织演变、铝合金基体中沉淀相的演变和位错密度的影响,揭示了超声振动抑制UVeFSW长大的机理。图 9 (a) HPT 处理样品在 500 Ⰳ 退火 600 s(恢复的)。近期,研究团队采用远程外延,实现了氮化物外延层中刃位错的有效降低,在原子尺度上研究了应力释放和位错密度降低的物理机制。图4:不同初始位错密度和应变速率下塑性应变的轮廓。图5体心立方金属W中,(a)初始位错密度,(b)位错源数量对位错增殖的影响。最大位错密度为=1.3㗱015/m2。(c)通过改变石墨烯辅助外延生长和直接外延生长的ImageTitle薄膜的(a) XRD摇摆曲线对比,(b) 刃位错和螺位错密度对比,(c) 应力对比;位错密度明显更高(图3C)。当位错密度增大时,圆核颗粒的纵向表面应变开始下降,表明位错有利于表面应变松弛(图3D)。这些结果表明但是,蓝宝石衬底与ImageTitle材料有高达17%的晶格失配度,如此大的晶格失配往往造成很高的位错密度,导致ImageTitle中的非辐射他们在中国散裂中子源上利用中子的穿透能力,精确测量获得相体积分数和位错密度,首次从微观层面揭示了这种“超强钢”既有创纪录实验结果表明,随着位错密度的增加,胶体晶体的强度增加,并最终达到了经典的Taylor硬化行为。研究还发现,胶体晶体在应力饱和后其根本原因在于传统马氏体的初始高密度位错难以继续增殖,且无序排列的几何取向结构微观塑性变形极不均匀,容易产生局部应力/自此之后,她又帮科研人员解决了锗单晶的位错密度下降的问题。 经过她一次次的惊惊艳之举,她一年内连升三次年薪,成为了公司的在伴随共晶液相的挤出过程中引入大量位错。同时还可形成大量第二相,进一步增加了位错密度。这些结构能有效增强声子散射,从而时效后,位错密度略有下降,SRA-2h样品出现微不足道的再结晶,位错密度和晶粒尺寸对合金的可塑性影响很小。通过视频直接观察大量研究表明,图形化蓝宝石衬底(Patterned Sapphire Substrate, PSS)有利于降低晶体的位错密度和应力释放,从而大大改善该研究是超细纳米晶晶界扩散相变诱导位错消耗与超硬化效应关键实验证据,揭示了极低位错密度对于纳米结构金属材料强化的重要性3)亚结构细化 冷变形会增加晶粒中的位错密度,随着变形量的增加,位错交织缠结,在晶粒内部形成胞状亚结构。 4)点阵严重畸变但由于3D打印冷却速度快,容易造成高残余应力、高位错密度的亚稳态微观组织结构。这种亚稳态结构在标准热处理或服役过程中容易(d)详细的TEM观察显示,在TB处累积了高位错密度的NT和相应的SAED模式。(e)细长纳米颗粒的亮场和相应区域的SAED图案。e) WP-UFG-1500和UFG-1500变形晶粒组织;(c, f) WP-UFG-1500和UFG-1500变形晶粒中位错密度的差异。区熔法不能像直拉法那样生产大直径的单晶,并且晶体有较高的位错密度,在进入21世纪之前主要用于生产5英寸的硅片。但是区熔法不这种悬而未决的问题的一个例子是增材制造Mg合金的延展性是否受到位错密度或残余应力的不利影响?在AM镁合金中是否对位错密度图2.位错回复过程示意图 将本工作中变形镍基高温合金单晶的位错密度和退火温度之间的变化曲线与两种典型单相合金,即变形纯铝(如图1所示,在本高熵合金中,位错的钉扎可以使位错密度增加,从而提高了合金的位错贮存能力,有利于合金塑性的提高。在相同变形量后陶瓷内位错密度与金属内位错密度值相当,从而实现了陶瓷像金属一样的拉伸塑性。陶瓷的拉伸形变量高达39.9%(图2不久后,她又解决了拉制锗单晶时位错密度降不来的大问题,还为公司申报了两项专利。 所以她的同事评价说林兰英说:“她有一个以及d)HRTEM照片显示半共格界面和高密度失配位错。<br/>图2 仿调幅分解结构Cu/Au合金的分子动力学模拟。a)典型 Gyroid双相应变的增长与位错密度的演化也显著相关,位错密度的增加主要集中在晶界附近,尤其是在小晶粒和形状变化显著的区域。图 6. 不同应变率下原子从晶格位置移动到形成位错的时间 和相关距离 d。通过分析位错密度、孪晶和马氏体体积分数的演化,可以进一步看出外部载荷通过改变微结构的演化速率来影响材料的硬化行为,从而硬度及强度下降不多是由于位错密度下降不多,亚晶还较细小。这些结果表明,在适当的温度下退火可以在不改变ImageTitle比例的情况下降低位错密度,增加晶粒尺寸。对于敏化CG样品,在150Ⰳ(i) 界面附近两个原子层面外方向原子偏移的线轮廓 氮化物材料由于生长方法的限制具有高密度的穿透位错,这些穿透位错会充当非辐射图3 WS-石英玻璃晶圆上的单晶氮化物范德华外延层 该生长方法同样适用于近年来新兴的柔性材料和器件领域,在可穿戴及可折叠显示并诱导大量小角度晶界(ImageTitle)和超高密度位错结构;晶粒尺寸、ImageTitle和位错密度沿深度方向呈梯度演变。经LSP处理的位错密度是针对相应 KAM 图中标记的白线测量的。 (c) E106水平样品原位拉伸测试后表面SEM图像; (d) 水平样品细晶粒区域失效的(d-f)向错密度分量测定,(g-i)几何必需位错密度分量测定。 材料加工工程专业博士研究生杜春风为本文的第一作者。通讯作者为进而迅速湮灭导致位错密度迅速降低。随后,剩余无法湮灭的位错通过改变构型来降低变形储能,包括攀移或交滑移变成卷曲状位错,在晶体质量方面,实验室在开发新的铸锭热场及工艺、提升少子寿命、降低多晶硅片的位错密度、降低氧浓度和碳浓度、收窄电阻率逆快速傅里叶变换(IFFT)图像表明HEA基质和ImageTitle纳米颗粒之间存在半相干界面形式以及界面周围的高密度位错。l 结果-HEA和(b1) TEM 图像显示,片内部的位错密度和位错相互作用(黄色箭头)较高。除了 (0002) 滑移系统外,许多差排还从相干的 PB图7a,SAL W-Cu复合材料在不同应变下铜相和钨相中的位错密度观察;b,SAL W-Cu在制备态和断裂后的铜相和钨相中的KAM分布;其中成分为Cu0.0029Pb(Se0.8Te0.2)0.95的化合物位错密度为~2ⴠ1012 cm-2。借助CS-STEM清晰观测出其刃位错形态,这些位错线(c) 50%铬和 50%铁的应力纹曲线和 (d) 位错密度增量比较。(e) 在应变分别为 0.038 和 0.03 时,50%Cr和 50%Fe 系统的随机模式和黄色箭头表示高密度位错,(d)和(e)HESP处理的平板拉伸样品示意图,显示两个GNG层夹一个变形CG芯,(f)从中心到表面层(i) 高位错密度的 BCD 位错图案,其中绿线为肖克利偏位错,红线为阶梯杆位错;(j) 两个肖克利偏态 和 相互作用产生的阶梯图4 拉伸变形后样品的TEM图 观察拉伸变形后的微观组织形貌,可以发现高密度的位错聚集在FCC胞内,B2相中观察到的位错很少。同时,轧制过程会产生高密度位错,这些位错可以作为原子氢吸收的优先位点[96]以及氢扩散管道,允许扩散到表面,因此当层间游达表示,协鑫的铸锭单晶G3产品由于采用定向铸锭工艺,无论是外观还是内在的位错密度,都无限接近直拉单晶硅片,凭借多晶的低图1 焊接接头的SEM/EDS线和图图像:(a)宏观形貌,(b)线图像的元素分布,(c)316LN侧熔合线附近的图图像,(d)研究人员通过将初始砷化物层的厚度保持在 0.5 ,牺牲了一些降低穿透位错密度 (TDD) 的潜力。GaP 层分两步生长,首先在 500Ⰳ在变形后状态下存在相当大的位错密度表明,纳米晶粒镍样品的变形被位错介导的塑性所适应,导致观察到的晶格旋转。在基体中形成高密度的富镁溶质团簇以及位错环,通过APT表征证明了团簇的形成消耗了固溶体中自由Mg原子数量,而Mg原子的存在是有效减少了外延材料中的堆垛层错和穿透位错密度。此外,相较于薄膜结构,纳米线中的低缺陷密度可大幅提高纳米线中施主、受主杂质随后她讲解了中应变率扭转试验机中引入变形梯度,在中熵合金棒材中得到了梯度位错密度、梯度纳米孪晶和梯度再结晶的微观结构,并图4.共格纳米片层合金与传统片层合金/纳米合金的力学性能比较该团队将其结果归因于低穿透位错密度 (TDD) 砷化镓 (GaP) 缓冲层、高增益 QD 有源区和 p 型调制掺杂的组合。 研究人员评论道:“改善了复合材料的延展性。而颗粒尺寸的减小会改变基体的位错密度及残余应力分布,从而减低其热膨胀系数和传导性。3.西安交大单智伟等在利用锥面位错提高镁的塑性取得重大进展 镁合金密度小,属于典型的轻质合金,可以大大减少能源的浪费。但是金刚石分为量子级、电子级、光学级、热学级、力学级几个主要等级,主要参考位错密度和含氮量两个参数,用于芯片的金刚石需要在位错可以在晶格中移动,为材料提供弯曲能力,但过多的位错会增加材料的脆性。因此,该研究为优化材料的位错密度提供了新的思路。产品性能方面,公司半导体衬底产品的位错密度、电阻率均匀性、平整度、表面颗粒度等关键性能指标优异,可满足 5G 射频功率放大器随后她讲解了中应变率扭转试验机中引入变形梯度,在中熵合金棒材中得到了梯度位错密度、梯度纳米孪晶和梯度再结晶的微观结构,并(a)粗大、超细和界面区之间形成的位错密度和应变梯度。(b)粗𘤸高密度位错滑移带。(c-e)粗变形孪晶(c)悤𛊧SiC外延可以通过采用适当的缓冲层,显著降低漂移层中基面位错的密度。 在对SiC进行离子注入时,会产生晶体缺陷。图3、图4本文展示了如何通过控制激光粉末床熔融( LPBF )技术生产的合金位错密度和热稳定性来克服这一限制。通过操纵合金的凝固组织,可以应变梯度需要几何必需位错(ImageTitle)来调节,并且几何必需位错密度与应变梯度正相关。几何必需位错的累积进一步产生了背应力,但由于由于ImageTitle材料硬度高,熔点高等特性,衬底制作难度高,位错缺陷密度较高导致良率低,技术进步缓慢。因此ImageTitle这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化( f )。不同应变水平下LPBF制备的HED和LED样品的( j ) HCP相含量、( k )位错密度和( l ) SF概率和平均SF距离演化的XRD分析。扩展的常规多重整体 SXRD 曲线分析还显示,与 293 K 时的 GDS 样品和 77 K 时的 CG 样品相比,77 K 时的 GDS 样品的位错密度要这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化图3. 共格纳米片层合金的变形机理:(a-c)分别为变形2%, 5%和16%的组织,(d)为(c)的放大图,显示出高密度层错网络结构和LC位错锁这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化SADP中红圈部分衍射环的暗场TEM图像。(d) B2纳米颗粒位错的高分辨率TEM图像。(e)位错密度计算的XRD图和(f)ImageTitleK-K图云南锗业与中科院半导体所成立了联合实验室,主要以大直径低位错密度锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅单晶材料制备及其应用为重点在无Al HEA中观察到了高密度位错壁为边界的胞状结构,而在这些等轴的位错胞内部,位错相对较少。而这种胞状的位错结构经常在工程应变为0.6时,ImageTitle中(a-c)等效Mises应力、(d-f)位错密度、(g-i)孪晶体积分数沿纵向的分布图。(a, d, g)为PT0 MEA,(b, e, h)降低缺陷密度(微管、位错、层错等)是其重点发展方向。 碳化硅单晶材料主要有导通型衬底和半绝缘衬底两种, 是第三代半导体材料消耗残余晶格位错并避免显著晶粒长大。这些导致了极低位错密度多晶体的形成,使塑性变形由预存晶格位错滑移主导转变为由位错的反射部位和区域之间可能存在高密度的缓冲位错边界。这些研究结果使我们更清楚了解这种机制,采用这种机制,有利于设计合金和异质从而使点缺陷密度明显下降,故电阻率明显下降。 (2)中温回复:主要与位错的滑移有关,同一滑移面上的异号位错可以相互吸引而(B)变形样品的TEM显微照片,显示出高密度的位错结构。请注意,在EBSD和TEM表征中,只能观察到很少的变形孪晶。这可能归因密度低等优异性能已成为许多高新技术领域发展的关键材料。但是陶瓷材料本征脆性引发的可靠性差,严重制约了陶瓷材料的进一步发展位错缺陷和杂质密度实现较好控制,少子寿命较低,因此多晶硅电池转换效率较低,但受晶体生长电耗、单炉投料量、金刚线切割出片率并统计出位错在衬底上的分布和位错密度。结果显示,该8英寸衬底的位错腐蚀坑密度(etch pit density, EPD)为3293 cm-2,其中螺型
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晶体中位错的量常用位错密度来表示图5-10 金属的强度与其中位错密度之间的关系锗单晶位错密度的测试方法原创金属顶刊3d打印高位错密度和纳米析出共存的超高强塑高熵合金摘要: 本文介绍了位错密度的概念和测量方法,以及位错的生成和增值北航增材顶刊:电弧增材制造含lpso相重稀土镁合金相变行为和性能位错密度张量高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究钢中位错密度分析香港大学黄明欣教授团队通过控制位错密度大幅提高超薄钢的屈服应力和晶体位错密度和晶体强度的关系高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究香港大学黄明欣教授团队:通过控制位错密度大幅提高超薄钢的屈服应力高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究位错密度高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究actamaterialia高熵合金新突破高密度位错与韧性纳米析出相协同强化全网资源高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究半导体设备国产化 的想法: 碳化硅位错密度技术指标高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究全网资源基于位错密度的体心立方晶体塑性本构模型高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究弈镁小课堂高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究mg合金几何必需位错密度的局域化过程及位错机理2017低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度随着相的部分溶解而脱钉,进而迅速湮灭导致位错密度迅速降低高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究清华大学重磅:超高稳定,超高密度位错高熵氧化物陶瓷重大突破高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究及适当的退火处理,成功制备出具有低位错密度的均质纳米结构316不锈钢高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究一种利用ebsd测量钢中位错密度的方法研究人员使用单个algan缓冲层开发出硅基绿色ingan led哈工大,nature +1!3相变强化通过固溶处理后,得到由奥氏体共格切变产生的高密度位错板条高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究高位错密度ingangan量子阱中点缺陷的影响研究哈工大顶刊ijp激光冲击强化高熵合金锗单晶位错密度的测试方法一种利用ebsd测量钢中位错密度的方法与流程在无al hea中观察到了高密度位错壁为边界的胞状结构,而在这些等轴的图2-7 金属强度与位错密度的关系3材料强度与位错密度的关系mg合金几何必需位错密度的局域化过程及位错机理lpbf+uit2 样品拉伸后的 tem 图像晶体中位错的量常用位错密度来表示弈镁小课堂锗单晶位错密度的测试方法图13 显示位错在lagb上转移的明场tem图像,如红色虚线所示,以及相应的
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以及d)HRTEM照片显示半共格界面和高密度失配位错。<br/>图2 仿调幅分解结构Cu/Au合金的分子动力学模拟。a)典型 Gyroid双相...
通过分析位错密度、孪晶和马氏体体积分数的演化,可以进一步看出外部载荷通过改变微结构的演化速率来影响材料的硬化行为,从而...
这些结果表明,在适当的温度下退火可以在不改变ImageTitle比例的情况下降低位错密度,增加晶粒尺寸。对于敏化CG样品,在150Ⰳ...
(i) 界面附近两个原子层面外方向原子偏移的线轮廓 氮化物材料由于生长方法的限制具有高密度的穿透位错,这些穿透位错会充当非辐射...
图3 WS-石英玻璃晶圆上的单晶氮化物范德华外延层 该生长方法同样适用于近年来新兴的柔性材料和器件领域,在可穿戴及可折叠显示...
并诱导大量小角度晶界(ImageTitle)和超高密度位错结构;晶粒尺寸、ImageTitle和位错密度沿深度方向呈梯度演变。经LSP处理的...
位错密度是针对相应 KAM 图中标记的白线测量的。 (c) E106水平样品原位拉伸测试后表面SEM图像; (d) 水平样品细晶粒区域失效的...
(d-f)向错密度分量测定,(g-i)几何必需位错密度分量测定。 材料加工工程专业博士研究生杜春风为本文的第一作者。通讯作者为...
进而迅速湮灭导致位错密度迅速降低。随后,剩余无法湮灭的位错通过改变构型来降低变形储能,包括攀移或交滑移变成卷曲状位错,...
在晶体质量方面,实验室在开发新的铸锭热场及工艺、提升少子寿命、降低多晶硅片的位错密度、降低氧浓度和碳浓度、收窄电阻率...
逆快速傅里叶变换(IFFT)图像表明HEA基质和ImageTitle纳米颗粒之间存在半相干界面形式以及界面周围的高密度位错。l 结果-HEA和...
(b1) TEM 图像显示,片内部的位错密度和位错相互作用(黄色箭头)较高。除了 (0002) 滑移系统外,许多差排还从相干的 PB...
图7a,SAL W-Cu复合材料在不同应变下铜相和钨相中的位错密度观察;b,SAL W-Cu在制备态和断裂后的铜相和钨相中的KAM分布;...
其中成分为Cu0.0029Pb(Se0.8Te0.2)0.95的化合物位错密度为~2ⴠ1012 cm-2。借助CS-STEM清晰观测出其刃位错形态,这些位错线...
(c) 50%铬和 50%铁的应力纹曲线和 (d) 位错密度增量比较。(e) 在应变分别为 0.038 和 0.03 时,50%Cr和 50%Fe 系统的随机模式和...
黄色箭头表示高密度位错,(d)和(e)HESP处理的平板拉伸样品示意图,显示两个GNG层夹一个变形CG芯,(f)从中心到表面层...
(i) 高位错密度的 BCD 位错图案,其中绿线为肖克利偏位错,红线为阶梯杆位错;(j) 两个肖克利偏态 和 相互作用产生的阶梯...
图4 拉伸变形后样品的TEM图 观察拉伸变形后的微观组织形貌,可以发现高密度的位错聚集在FCC胞内,B2相中观察到的位错很少。...
同时,轧制过程会产生高密度位错,这些位错可以作为原子氢吸收的优先位点[96]以及氢扩散管道,允许扩散到表面,因此当层间...
游达表示,协鑫的铸锭单晶G3产品由于采用定向铸锭工艺,无论是外观还是内在的位错密度,都无限接近直拉单晶硅片,凭借多晶的低...
图1 焊接接头的SEM/EDS线和图图像:(a)宏观形貌,(b)线图像的元素分布,(c)316LN侧熔合线附近的图图像,(d)...
研究人员通过将初始砷化物层的厚度保持在 0.5 ,牺牲了一些降低穿透位错密度 (TDD) 的潜力。GaP 层分两步生长,首先在 500Ⰳ...
在基体中形成高密度的富镁溶质团簇以及位错环,通过APT表征证明了团簇的形成消耗了固溶体中自由Mg原子数量,而Mg原子的存在是...
有效减少了外延材料中的堆垛层错和穿透位错密度。此外,相较于薄膜结构,纳米线中的低缺陷密度可大幅提高纳米线中施主、受主杂质...
随后她讲解了中应变率扭转试验机中引入变形梯度,在中熵合金棒材中得到了梯度位错密度、梯度纳米孪晶和梯度再结晶的微观结构,并...
该团队将其结果归因于低穿透位错密度 (TDD) 砷化镓 (GaP) 缓冲层、高增益 QD 有源区和 p 型调制掺杂的组合。 研究人员评论道:“...
3.西安交大单智伟等在利用锥面位错提高镁的塑性取得重大进展 镁合金密度小,属于典型的轻质合金,可以大大减少能源的浪费。但是...
金刚石分为量子级、电子级、光学级、热学级、力学级几个主要等级,主要参考位错密度和含氮量两个参数,用于芯片的金刚石需要在...
位错可以在晶格中移动,为材料提供弯曲能力,但过多的位错会增加材料的脆性。因此,该研究为优化材料的位错密度提供了新的思路。...
产品性能方面,公司半导体衬底产品的位错密度、电阻率均匀性、平整度、表面颗粒度等关键性能指标优异,可满足 5G 射频功率放大器...
随后她讲解了中应变率扭转试验机中引入变形梯度,在中熵合金棒材中得到了梯度位错密度、梯度纳米孪晶和梯度再结晶的微观结构,并...
(a)粗大、超细和界面区之间形成的位错密度和应变梯度。(b)粗𘤸高密度位错滑移带。(c-e)粗变形孪晶(c)..
如今的SiC外延可以通过采用适当的缓冲层,显著降低漂移层中基面位错的密度。 在对SiC进行离子注入时,会产生晶体缺陷。图3、图4...
本文展示了如何通过控制激光粉末床熔融( LPBF )技术生产的合金位错密度和热稳定性来克服这一限制。通过操纵合金的凝固组织,可以...
应变梯度需要几何必需位错(ImageTitle)来调节,并且几何必需位错密度与应变梯度正相关。几何必需位错的累积进一步产生了背应力,...
但由于由于ImageTitle材料硬度高,熔点高等特性,衬底制作难度高,位错缺陷密度较高导致良率低,技术进步缓慢。因此ImageTitle...
这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化...
( f )。不同应变水平下LPBF制备的HED和LED样品的( j ) HCP相含量、( k )位错密度和( l ) SF概率和平均SF距离演化的XRD分析。
扩展的常规多重整体 SXRD 曲线分析还显示,与 293 K 时的 GDS 样品和 77 K 时的 CG 样品相比,77 K 时的 GDS 样品的位错密度要...
这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化...
这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化...
图3. 共格纳米片层合金的变形机理:(a-c)分别为变形2%, 5%和16%的组织,(d)为(c)的放大图,显示出高密度层错网络结构和LC位错锁
这些方法生产成本高、样品尺寸小,而且细晶材料中通常含有高密度位错、空位等晶体缺陷,大大降低其均匀延展性,很难实现规模化...
SADP中红圈部分衍射环的暗场TEM图像。(d) B2纳米颗粒位错的高分辨率TEM图像。(e)位错密度计算的XRD图和(f)ImageTitleK-K图
云南锗业与中科院半导体所成立了联合实验室,主要以大直径低位错密度锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅单晶材料制备及其应用为重点...
在无Al HEA中观察到了高密度位错壁为边界的胞状结构,而在这些等轴的位错胞内部,位错相对较少。而这种胞状的位错结构经常在...
工程应变为0.6时,ImageTitle中(a-c)等效Mises应力、(d-f)位错密度、(g-i)孪晶体积分数沿纵向的分布图。(a, d, g)为PT0 MEA,(b, e, h)...
降低缺陷密度(微管、位错、层错等)是其重点发展方向。 碳化硅单晶材料主要有导通型衬底和半绝缘衬底两种, 是第三代半导体材料...
消耗残余晶格位错并避免显著晶粒长大。这些导致了极低位错密度多晶体的形成,使塑性变形由预存晶格位错滑移主导转变为由位错的...
反射部位和区域之间可能存在高密度的缓冲位错边界。这些研究结果使我们更清楚了解这种机制,采用这种机制,有利于设计合金和异质...
从而使点缺陷密度明显下降,故电阻率明显下降。 (2)中温回复:主要与位错的滑移有关,同一滑移面上的异号位错可以相互吸引而...
(B)变形样品的TEM显微照片,显示出高密度的位错结构。请注意,在EBSD和TEM表征中,只能观察到很少的变形孪晶。这可能归因...
密度低等优异性能已成为许多高新技术领域发展的关键材料。但是陶瓷材料本征脆性引发的可靠性差,严重制约了陶瓷材料的进一步发展...
位错缺陷和杂质密度实现较好控制,少子寿命较低,因此多晶硅电池转换效率较低,但受晶体生长电耗、单炉投料量、金刚线切割出片率...
并统计出位错在衬底上的分布和位错密度。结果显示,该8英寸衬底的位错腐蚀坑密度(etch pit density, EPD)为3293 cm-2,其中螺型...
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