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极紫外光最新视觉报道_极紫外光源(2024年12月全程跟踪)

内容来源：麦吉窗影视所属栏目：热点更新日期：2024-12-02

极紫外光

半个世纪以来，芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话，那么，这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地，用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度，也必须越来越高，否则，你设计的“照片”再精美，印不出来，也是白搭。以目前华为的麒麟7纳米芯片为例，生产这样的芯片，要用前面说到的最先进的极紫外光刻机。它的精度要达到什么样的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。我们知道，1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。但是，极紫外光源很难制造。有大概20年的时间，光刻机所使用的光都是波长为193纳米的深紫外光，一直无法突破。直到2015年，阿斯麦才研制出了第一台极紫外光刻机。到今天，也只有阿斯麦一家公司能够生产极紫外光刻机。这就是光刻机的第一个技术难点，光源。#动态连更挑战#

你知道那台让西方国家得意洋洋，总想着卡我们脖子的机器是啥吗？光刻机！这台位于美国俄勒冈州英特尔工厂的ASML高数值孔径极紫外光刻机，简直是工业界的顶级大佬。看着它那复杂又高级的构造，难怪西方国家总爱拿它当王牌。但咱们也别怵，多看看、多学学，总有一天咱们也能造出自己的光刻机。毕竟，这机器虽然贵得吓人，一台好几亿美元，但它也只是个工具，咱们中国人连长城都能建，还有啥造不出来？想想那些年被西方国家限制的滋味，咱们是不是得更努力？只要咱们肯下功夫，总有一天，这些尖端技术也能被咱们玩得团团转！看着这台光刻机，是不是觉得咱们的路还长？但别怕，只要心中有梦想，脚下有力量，咱们一定能走到科技的最前沿！#热点引擎计划#

中微董事长尹志尧指出，荷兰 ASML 的极紫外光刻机历经 20 年、耗费约 1500 亿才研制成功。光刻机研发烧钱且风险大，成功案例寥寥无几。这是一项久久为功的事业，需投入大量人力物力，急不得。光刻机的研发之路漫长而艰难，却也激励着我们脚踏实地，为实现技术突破而不懈努力，勇攀科技高峰。

$英诺激光 sz301021$光刻机成本占比最高的部件是光学部件，具体来说，光学部件占光刻机总成本的26%左右，光源系统也是成本占比较高的部分，大约占25%左右，光源系统中的极紫外光（EUV）光源部分成本占比更是高达27%，作为上海微电子明确的合作伙伴，英诺激光竟然只有五十亿的市值，这个预期差大的离谱！

光刻机，是近两年热议的话题，很多人都在说，光刻机是中国被“卡脖子”的关键技术之一。这种神秘的机器，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，它是用来制造芯片的核心设备。一台最先进的极紫外（EUV）光刻机，市场售价高达1.2亿欧元，和一架波音737客机的价格差不多。有人开玩笑说，光刻机哪里是在刻芯片，简直就是在印钞票。而且，这么贵的东西，还不是你想买就能买。极紫外光刻机目前全球只有一家公司能生产，这就是今天要说的主角，荷兰的阿斯麦公司。2019年，阿斯麦公司的极紫外光刻机产量只有20多台，英特尔、三星、台积电等芯片生产巨头都在等着供货。中芯国际曾经在2017年下血本向阿斯麦订购了一台极紫外光刻机，但由于美国的阻挠，这台机器至今没有到货。目前，我国花在进口芯片上的钱超过了进口石油，芯片成为消耗外汇储备最多的项目。如果美国全面断供芯片，而我们又买不到最先进的光刻机，那么我们将面临没有高端芯片可用的风险。#时事热点我来评# #多的是你不知道的事#

猛料四：光刻机巨头阿斯麦释放重磅信号，行业前景乐观！事件：昨日光刻机巨头阿斯麦宣布，维持乐观的长期收入前景。预计2030年的销售额将在440亿欧元至600亿欧元之间，并押注人工智能驱动的半导体需求繁荣。阿斯麦还承诺增加派息和股票回购。随后阿斯麦的股价在欧洲市场大幅拉升！点评：该消息利好光刻机板块。光刻机是制造芯片的关键设备，阿斯麦是全球最大的光刻机制造商，也是唯一的极紫外光刻机供应商。阿斯麦昨天对行业的预判，将时间线拉长到2030年，这让不少投资者对半导体行业的长期前景充满了希望。随后，美银等国际投行也上调了对阿斯麦的股票评级，并重申买入评级！ A股市场方面，半导体自主可控是近期市场主线热点之一，本周初已经有大量机构和游资追高进场。从机构和游资的进场位来看，经过一周的下跌后，目前基本都处于套牢状态。

【IWAPS】上海光源极紫外光刻掩模版检验光束线来自Shanghai Advanced Research Institute的Yong Wang作了题为《上海光源极紫外光刻掩模版检验光束线》的报告。上海光源（Shanghai Synchrotron Radiation Facility, SSRF）建造了一条用于极紫外光刻掩模版检测的专用光束线。SSRF能够产生稳定且纯净的13.5nm的极紫外光，用于检测和审查极紫外光刻掩模版的缺陷。其通过使用傅里叶合成照明和离轴区平面成像技术，实现了高数值孔径（NA）和高分辨率。暗场散射模式被用来实现对掩模版缺陷的高灵敏检测。该光束线的设计目标是达到30nm的掩模版成像分辨率和30nm的检测灵敏度。检测（inspection）模式和检查（review）模式被集成在一个紧凑的腔体内，两种模式切换便捷。该光束线目前正在调试中，预计将在今年完成。

差距100倍！俄罗斯光刻机制造成功，算不算一大进步！莫笑差距100倍，俄罗斯首台光刻机成功问世，仅有350纳米芯片技术！距离目前主流先进的光刻机差距70-100倍！荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），可以实现5纳米甚至3纳米制程水平。莫要嘲笑，能造350nm光刻机，说明基本上已搞懂光刻机原理了，目前世界上没有几个国家能掌握光刻机原理！剩下只需要时间追赶，坚持不30年或者50年终能追上，西方光刻机越往后发展越慢！好歹也是一个好的开始，有一就有二！大家不要再嘲笑了，虽然商用价值为0，至少导弹够用了！

ASML将每年投资1亿欧元扩建柏林工厂荷兰半导体巨头ASML计划在2023年投资1亿欧元（约合1.09亿美元），并在未来几年继续每年投入相同金额，以扩大其在柏林制造工厂的生产和开发能力。 ASML总经理George Gomba表示，公司自2022年初以来已经增加了600名员工，目前首都工厂拥有1700名员工，预计未来几年将增加到2300人。报道称，ASML预计未来几年将实现快速增长，而德国工厂则为生产高度复杂的芯片生产机器提供重要零部件。ASML的市值接近2500亿欧元，是欧洲最有价值的科技集团之一。凭借其EUV机器，ASML成为芯片行业不可或缺的供应商。EUV代表极紫外光，用于曝光半导体，使得生产结构尺寸小于7nm的最新一代芯片成为可能。

1990年代，就在尼康想出F2方案、林本坚想出浸入式方案的时候，芯片界的老大英特尔也在想办法：这么小打小闹、修修补补下去不行啊，想要在未来十年保持摩尔定律有效，必须把光刻机的波长缩小一个数量级才行。这种光就是一开始我们提到的极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是深紫外光的1/15。当然，要制造出这种光源的光刻机，已经不是哪家公司凭一己之力就可以完成的，必须举当时全美国最先进的科技力量，共同研发。1997年，英特尔和美国能源部牵头，成立了一个研究组织叫做“极紫外联盟”（EUV LLC），成员包括当时还如日中天的摩托罗拉、AMD，以及美国三大国家实验室；总投资两亿美元，集合几百位顶级科学家，从理论上验证极紫外技术的可行性。从1997~2003年的6年之内，极紫外联盟的科学家发表了几百篇论文，扫清了极紫外技术的理论难题，只需要光刻机厂商把技术落地了。问题是，美国举全国之力研发出来的这么宝贵的技术，交给谁呢？美国的光刻机厂商已经被团灭了，剩下的玩家只有阿斯麦、尼康、佳能三巨头。1980年代日本人在存储芯片领域把美国人打得落花流水，美国人至今恨得牙痒痒，把技术转让给日本人断断不行。这样一来，唯一的选择就只有阿斯麦了。#热点新知#

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